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LPCVD、PECVD、刻蚀等的废气处理，采用电热/气燃烧方式，内部喷淋水/配液循环，液体成分监测、具有自动补水补液
应用于半导体行业LED、多用于MOCVD、HVPE（GaN工艺）废气处理，多级喷淋，使易溶于水或配置溶液反应生成沉积的物质，以达到有毒腐蚀气体的回收，达标气体的安全排放
“热解”+“分解”方式，节能、高效处理太阳能电池PECVD等设备的废气，将SiH4进行高温热解，将NH3直接进 行分解，无需氨水处理，无需燃烧。
主要用于高性能钕铁硼等磁性材料的高精密扩散渗镝、渗铽等工艺，以及高性能钐钴等磁性材料的精密真空气氛烧结、退火（含快冷）等工艺。
主要用于高性能钕铁硼等磁性材料的高精密扩散渗镝、渗铽等工艺，以及高性能磁性材料和功能性材料的氮化处理工艺等。
主要用于高性能钕铁硼等磁性材料的高精密扩散渗镝、渗铽等工艺，以及高性能钐钴等磁性材料的精密真空气氛烧结、退火（含快冷）等工艺。
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