4008-110044
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专业半导体装备制造30年
产品性能：
◆高真空度，工艺真空优于1.0×10-3Pa
◆快冷、高真空、气氛等控制，满足客户特殊工艺要求
◆扩散渗镝/铽室+预沉积（涂覆/蒸镀）室等
◆工作温度：500-1000℃/1500℃/2400℃，高可靠性，高重复性
◆批量生产型（连续3-5室渗镝炉），100Kg/炉，300Kg/炉
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