氧化/扩散/CVD系列

科研型氧化扩散系统 __ 水平系列

    产品性能:
     
    ◆满足2~8(12)寸晶圆工艺
     
    ◆占地面积小,水平多管/立式单管
     
    ◆3温区,300mm,5~25片/批
     
    ◆温度:200~1300℃/1400℃/2200℃(高温)
     
    配套工艺:
     
    ◆扩散:气态/液态/固态源磷硼扩散
     
    ◆氧化:干氧/湿氧(DCE,HCL)
     
    ◆氮、氢退火,烧结、合金、固化等