氧化/扩散/CVD系列

垂直LPCVD系统 __ 8寸系列

    简介:
     
    垂直氧化系统应用于IC集成电路、MEMS、电力电子器件、光电子器件等领域,6”、8”晶圆的薄膜沉积及参杂等工艺。
     
    产品性能:
     
    ◆立式结构,高效产能,150片/批
     
    ◆配套标准成套工艺,满足客户需求
     
    ◆稳定优良的成膜均匀性,重复性好
     
    ◆高精度可靠的自动压力控制系统
     
    ◆微环境低氧控制先进技术
     
    ◆硅片颗粒度控制稳定,国际标准
     
    ◆高集成度,完整的工厂MES系统对接,符合SECS/GEM等标准
     
    配套工艺:
     
    ◆多晶硅P-Si,氮化硅Si3N4,氧化硅SiO2
     
    ◆磷硅玻璃PSG,硼磷硅玻璃BPSG
     
    ◆TEOS,LTO,HTO,SIPOS...