氧化/扩散/CVD系列

LPCVD系统 __ 水平系列

    简介:
    水平LPCVD系统应用于IC集成电路、MEMS、功率器件、纳米技术、光电子器件等领域。
     
    产品性能:
     
    满足4~8寸晶圆工艺
     
    每台1~4/5管,石英/SiC反应管
     
    恒温区:800/1000/1250mm
     
    温度:200~1000℃
     
    高精度可靠的自动压力控制系统
     
    全自动机械手装卸,悬臂/软着陆
     
    高集成度,完整的工厂MES系统对接
     
    配套工艺:
    多晶硅P-Si,氮化硅Si3N4,氧化硅SiO2
     
    磷硅玻璃PSG,硼磷硅玻璃BPSG
     
    TEOS,LTO,HTO,SIPOS...