氧化/扩散/CVD系列

水平氧化扩散系统

    简介:

    水平氧化扩散系统应用于IC集成电路、MEMS、功率器件、电力电子器件、光电子器件、太阳能电池等领域。
     
    产品性能:
     
    ◆满足4~8寸晶圆工艺
     
    ◆每台1~4/5管,石英/SiC反应管
     
    ◆恒温区:800/1000/1250mm
     
    ◆温度:200~1300℃/1350℃
     
    ◆全自动机械手装卸,悬臂/软着陆
     
    ◆高集成度,完整的工厂MES系统对接
     
    配套工艺:
     
    ◆扩散:气态/液态/固态源磷硼扩散
     
    ◆氧化:干氧/湿氧(DCE,HCL)
     
    ◆氮、氢退火,烧结、合金、固化等